Wat is EUV?

ASML is de enige fabrikant van EUV-lithografiemachines ter wereld. Als integrator ontwierp het bedrijf de algehele systeemarchitectuur en de EUV-bron in het bijzonder. De krachtige laser van TRUMPF voor de EUV-lichtbron en het optische systeem van ZEISS zijn sleutelcomponenten van deze machines. EUV staat voor 'extreem ultraviolet' licht, oftewel licht met een extreem korte golflengte.

Nieuwe generatie microchips

Deze ongeëvenaarde sleuteltechnologie kan worden gebruikt om aanzienlijk betere en energiezuinigere en kosteneffectievere microchips te produceren. Effectieve digitalisering vereist een voortdurende en snelle toename van de rekenkracht. De smartphones van tegenwoordig zijn een miljoen keer krachtiger dan de computer die werd gebruikt tijdens de eerste maanlanding in 1969. Dit wordt mogelijk gemaakt door een microchip die kleiner is dan een vingertop, maar die plaats biedt aan meer dan vijftien miljard transistors.

"Als baanbrekende innovatie zorgt de EUV-technologie nog steeds voor grote vooruitgang op het gebied van digitalisering in het bedrijfsleven en de samenleving."

Het fabricageproces voor de nieuwste chipgeneraties is gebaseerd op het gebruik van EUV-licht, waarmee de grenzen van wat technologisch haalbaar is, worden verlegd. Van de lichtbron en het optische systeem in een vacuüm tot de oppervlaktecoating van de spiegels die in het proces werden gebruikt – praktisch de volledige belichtingstechnologie moest vanaf nul worden ontwikkeld.

Belangrijk voor ons dagelijks leven

Het winnende team leverde een belangrijke bijdrage aan de ontwikkeling van deze EUV-technologie en de voorbereiding op industriële serieproductie. Het resultaat? Een toekomstbestendige technologie die -  op basis van meer dan 2.000 patenten - de basis vormt voor de digitalisering van ons dagelijks leven. Het zorgt voor toepassingen, zoals geautomatiseerd rijden, 5G, kunstmatige intelligentie en andere toekomstige innovaties. Dankzij EUV zijn tot nu toe meer dan 3.300 hightech-banen gecreëerd bij ZEISS en TRUMPF en werd in 2019 een jaaromzet van meer dan een miljard euro – met een stijgende lijn – gegenereerd.

Een Duits-Europees succesverhaal

Dr. Markus Weber, directielid van de ZEISS Group en hoofd van het segment Semiconductor Manufacturing Technology. “ZEISS staat voor optische uitmuntendheid en precisie. Dit is altijd een sleutelfactor geweest bij de productie van chips. Als baanbrekende innovatie zorgt de EUV-technologie nog steeds voor grote vooruitgang op het gebied van digitalisering in het bedrijfsleven en de samenleving. We zijn er trots op hieraan bij te dragen samen met onze strategische partners ASML, TRUMPF en Fraunhofer."

"De prijs toont aan dat een sterke industrie en een uitmuntend onderzoekslandschap een cruciale rol spelen bij het aangaan van de uitdagingen van deze eeuw."

Met ‘s werelds sterkste pulsed industrial laser levert TRUMPF een sleutelcomponent voor de belichting van de modernste microchips die in elke moderne smartphone worden gebruikt. Er is geen economisch alternatief voor deze laser om het licht op te wekken dat nodig is voor EUV-lithografie.

TRUMPF Vicevoorzitter van de Groepsdirectie en Chief Technology Officer Peter Leibinger: "Dit is een perfect voorbeeld van hoe toekomstige technologieën kunnen worden ontwikkeld tot industriële volwassenheid door middel van sterke partnerschappen: door een combinatie van inventiviteit, kennis van technologie, doorzettingsvermogen en goed teamwerk. De prijs toont aan dat een sterke industrie en een uitmuntend onderzoekslandschap een cruciale rol spelen bij het aangaan van de uitdagingen van deze eeuw. Het gigantische EUV-lithografieproject creëert ook banen tijdens het corona-jaar en zorgt er bovendien voor dat Europa een pioniersrol speelt bij de productie van ultramoderne microchips."

De meest nauwkeurige spiegel van de wereld

De kwaliteit en vorm van het verlichtingssysteem van TRUMF en het resolutievermogen van de projectieoptiek van ZEISS bepalen hoe klein de structuren op microchips kunnen zijn. De spiegels die in het optische systeem worden gebruikt, bevatten daarom belangrijke innovaties. Omdat zelfs de kleinste onregelmatigheden tot beeldfouten leiden, is ‘s werelds ’meest nauwkeurige' spiegel ontwikkeld voor EUV-lithografie. Fraunhofer was een belangrijke onderzoekspartner in de geavanceerde coatingtechnologie voor de grootschalige spiegels.

Prof. Reimund Neugebauer, voorzitter van het Fraunhofer-Gesellschaft: "Wetenschappers van Fraunhofer speelden een belangrijke rol bij de ontwikkeling van de eerste EUV-spiegels en straalbronnen in de bijna drie decennia van onderzoek. Dat EUV-lithografie nu wordt toegepast, is ook te danken aan de intensieve samenwerking tussen wetenschap en industrie, de geest van onderzoek en de blijvende inzet van alle betrokkenen."

Deutsche Zukunftspreis

De Deutsche Zukunftspreis wordt sinds 1997 elk jaar uitgereikt. Het is een van de hoogste onderscheidingen voor wetenschappelijke prestaties in Duitsland en heeft een waarde van € 250.000. Het eert uitzonderlijke prestaties op het gebied van technologie, engineering en de levenswetenschappen die hebben geresulteerd in levensvatbare producten.

Bron: Link Magazine